集成电路布图设计集成电路布图设计专有权

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集成电路布图设计专有权是一种通过注册获得的，允许在商业活动中利用设计的独特权利。其取得主要基于独创性的布图设计，由中国公民、法人或其他组织创作，或外国人作品在中国首次商业应用，以及在相关协议或国际条约框架下的权利归属。

获得布图设计专有权的方式涉及提交申请，包括向国家知识产权行政部门提交集成电路布图设计登记申请表、复制件或图样，以及可能的商业利用证据。申请流程包括初审、登记公告、可能的复审和撤销等步骤。申请阶段需要提供详细材料，如集成电路样品等。

专有权的内容包括复制权和商业利用权，但不包含精神权利。权利转让需通过书面合同并进行登记公告。布图设计的保护期限为10年，自申请或首次商业使用日期计算，创作完成后15年后不再受保护。侵权行为涉及复制和商业利用他人布图设计，需承担相应的民事或行政责任，并可采取制止措施。

在某些情况下，合理使用或反向工程行为不被视为侵权，如个人复制用于教学研究，或对他人设计进行分析后创作新设计。权利穷竭和善意买主则规定了在特定情况下的豁免。

扩展资料

集成电路指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。 它是微电子技术的核心，电子信息技术基础。广泛应用于计算机，通讯设备，家用电器等电子产品。具备集成性，整体性及工艺严格性。